SIMOX
SIMOX SOI晶片是在高温条件下,将高剂量氧离子注入到单晶硅中形成隔离层,在超高温退火条件下形成顶层硅、二氧化硅埋层、体硅三层结构的新型半导体材料。主要用于制造高速微处理器、高速通讯、三维图象处理、先进多媒体电路、低压低功耗移动计算机、移动电话、便携式电子设备电路。
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