荷兰ASML公司（全称： Advanced Semiconductor Material Lithography）由创始人德尔·普拉（Arthurdel Prado）于1984年4月1日成立，当时名为ASM Lithography。公司的注册标识为ASML HoldingN.V，全球总部位于荷兰的Veldhoven。
发展历程
2022年5月31日，
美国商务部官网显示，美国商务部副部长 Don Graves 与荷兰半导体公司阿斯麦（ASML）首席执行官兼总裁 Peter Wennink 共同宣布阿斯麦将斥资2亿美元扩建其位于
康涅狄格州威尔顿的工厂。
2022年6月6日，
光刻机巨头ASML表示，继续深耕中国市场，为了支持中国业务的增长，ASML今年将持续扩大中国团队，计划招聘200余名员工。
2023年5月18日，荷兰阿斯麦公司（ASML）表示，已在
首尔附近开设了一个新的
极紫外（EUV）光刻机全球培训中心。
2023年11月30日，阿斯麦（ASML）宣布，拟任命现任首席业务官兼监事会成员
Christophe Fouquet担任公司下一任总裁兼首席执行官。该任命须经2024年4月24日的年度股东大会批准。
2023年12月13日，在荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）总部举行的半导体合作协议仪式上，韩国半导体巨头
三星电子与该公司签订了建立EUV联合研究中心的合作备忘录。
2023年12月22日，据外媒报道称，荷兰阿斯麦公司将优先向美国
英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。
2024年2月，新型光刻机已经首次将光线投射到
晶圆之上，完成了基本功能验证，公司下一步将继续测试和调整系统，以发挥出设备的全部性能。3月6日，据路透社等媒体报道，阿斯麦计划将公司搬离荷兰。荷兰政府已成立了一个代号“贝多芬计划”的特别工作组，由首相
吕特亲自领导，以寻求让阿斯麦继续留在荷兰。
2024年4月17日，因最新披露的一季度订单远低于市场预期，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）的股价盘前大幅下挫，一度跌超5%。
2024年6月，阿斯麦控股涨约8%，报944.1欧元，市值超过路易威登母公司，成为欧洲第二大上市公司。LVMH集团涨2.29%，暂报751.9001欧元。
2023年底，ASML在中国市场的光刻机与量测设备累计数量达到1400台。
2024年9月23日，荷兰经济事务大臣迪尔克·贝尔亚尔茨在访问华盛顿时强调中国作为贸易伙伴的重要性，并重申荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）必须允许尽可能自由地开展业务。
当地时间2025年1月27日，美股三大股指低开，道指跌0.8%，标普500指数跌2.2%，纳指跌3.6%。DeepSeek引发芯片股估值担忧，阿斯麦（ASML）跌超8%。
公司简介
总部位于荷兰埃因霍温（Eindhoven），欧洲人均
科研经费排名第二的高科技公司。2010年，其全球
净销售收入超过45亿欧元。2011年，卖出222套机器，全球净销售收入56.51亿欧元，
净利润14.67亿欧元。
ASML在欧洲、
亚洲及美国的50多个地区拥有9245名员工，其中固定员工7184（欧洲4202，亚洲1538， 美国1444），男女比例为9:1。截至2011年，全球
市场占有率75%。
中国地区总部地址：
上海市张江镇金科路2889号
长泰广场A座9楼
产品服务
ASML为半导体生产商提供
光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，
生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如
英特尔（Intel）、
三星（Samsung）、
海力士（Hynix）、
台积电（
TSMC）、
中芯国际（
SMIC）等。
ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是主推的高端机型，全部为沉浸式。
已经商用的最先进机型是Twinscan NXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。
ASML正在加紧研制基于
极紫外（EUV）光源的新型光刻机，型号定为NXE系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将
关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。
ASML下一代半导体设备—High-NA EUV 设备是将集光能力的镜头
数值孔径（NA）从0.33提高到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。
零部件研发
2020年，据阿斯麦高管介绍，阿斯麦产品85%的零部件是和供应链共同研发。开放的
生态系统能让企业在全世界找到最好的供应商，包括光学器件、机械装置等。
技术前景
除了致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与
IMEC,
IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（
极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等
新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。2007年末三星(Samsung)宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。
市场份额
市场上提供量产商用的
光刻机厂商有三家：ASML、
尼康(Nikon)和
佳能(Canon)。 根据2007年的
统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的
市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），ASML大约占据80%的市场份额。不过，
竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。
对华合作
ASML一直致力于中国市场的拓展与合作，包括香港在内已经在
北京、
上海、
深圳、
无锡等地开设分公司，为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的发展，相信
大连、
成都、
重庆、
武汉等新兴的半导体基地也会纳入ASML的版图之内。ASML有信心和中国半导体从业者一道为技术创新和
市场拓展开辟道路。ASML已经与
浙江大学、
大连理工大学、
哈尔滨工业大学、
上海交通大学等
著名高等学府签定奖学金及科研合作协议，为培养本地人才，做出自己的一份贡献。
2020年10月，阿斯麦光刻机在中国大陆地区大大小小装机有700台，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机数量超过了全球总量的20%。
2020年，在第三届进博会上，光刻机巨头ASML也参展了，并且还在自己的展台上晒出展示了光刻机。
2022年1月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）的首席执行官彼得·维尼克表示，截至目前该公司仍未获得向中国出口用于制造芯片的最新光刻机的许可。
2022年5月，荷兰阿斯麦公司(ASML)正在制造新款极
紫外线(EUV)光刻机。
所获荣誉
2020年5月13日，阿斯麦控股名列2020福布斯全球企业2000强榜第361位。
2022年12月9日，阿斯麦控股以13,410亿人民币位列《
2022胡润世界500强》第42名。
2024年，全球品牌价值500强排名第332位。
2025年1月，阿斯麦控股名列2024胡润全球高质量企业TOP1000第21名。
企业事件
收购睿初科技
ASML于2007年正式完成对美国睿初(Brion)科技的收购，使之成为旗下重要一员。睿初科技是建立在美国
硅谷的高科技公司，致力于
计算光刻等方面的服务，用于检测
光刻缺陷及提出相应修正解决方案，在同行业中处于领跑位置。 睿初科技总部位于美国
加利福尼亚州Santa Clara。
收购Cymer
ASML于2012年10月宣布收购美国Cymer公司，以加快EUV的研发进度。Cymer公司是世界领先的
准分子激光源提供商，发明了如今半导体制造中最关键的
光刻技术所需的深紫外（DUV）光源。产品主要特性是：带宽窄，
运行速度高，可靠性强。Cymer光源在批量生产符合特定规格的的世上最先进的
半导体芯片时起着决定性的作用。
上调营收预期
2021年10月，荷兰ASML公司上调未来十年营收预期，到2030年的年收入增幅将达到11%左右，预计到2025年营收240亿至300亿欧元，
毛利率高达55%。
2022年1月，“中国不太可能独立复制（replicate）出顶尖的光刻技术，因为阿斯麦依赖于不懈的创新，以及整合只有从非
中国供应商处才能获得的零部件。但我的意思并不是绝对不可能，因为中国的
物理定律和我们这里是一样的。永远别那么绝对（Never say never），他们肯定会尝试的。”当地时间1月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO温彼得（Peter Wennink）表示。
被美施压禁止对华供货
2022年11月4日消息，美国和荷兰本月将就限制对华先进芯片
技术出口举行新一轮谈判，预计美国将加大对荷兰的施压力度，阻止荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）对华供货。
撤销出口许可证
2024年1月1日，ASML在官网发布声明称，其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，影响了少数中国客户。后续据阿斯麦称，2023年NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出货许可证突然被撤销，不过2023年阿斯麦基本已交付了中国大陆客户预付的DUV积压订单，至于2023年之后能否继续出口DUV光刻机，在此之前本就无法确定。
出走荷兰
荷兰光刻机企业阿斯麦打算出走，将总部迁出荷兰。2024年4月，荷兰政府宣布，为确保阿斯麦不将业务迁往他国，荷兰政府将拿出25亿欧元（约合人民币195亿元）挽留阿斯麦。
现任领导
总裁兼CEO：克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet）
首席商务官兼管理委员会成员：
克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet ）